45（nm）浸没步进式光刻机，将于三月底之前抵达魔都。”
这台设备，就是孟如松准备用来攻克45（nm）制程工艺的关键。
浸没式光刻技术，是由台电的林本坚博士于2002年率先提出的概念，此前的光刻机都是干式机台，曝光和显影都是在无尘室中，以空气为媒介进行。
而林本坚博士提出，如果用折射率大于1的水（去离子水）为媒介进行光刻，最小分辨率将得到有效的提升，这就是浸没式光刻系统的原理。
随后，AMSL和台电合作研发浸没步进式光刻机，并一举成功。该设备采用折射率达到1.44的去离子水作为媒介，轻松实现了45（nm）制程工艺。
“孟总，这当然是好消息了。虽然咱们获得设备比台电要晚，但其实也差不了几个月，这点时间就无所谓了。”
胡杨笑着安慰孟如松，在国产光刻设备不能替代进口产品之前，芯通国际和台电、S星的竞争实际上是被困住手脚的。
孟如松又和胡杨继续聊了一会别的事情，就挂了电话。
胡杨把手机扔在桌上，不禁叹了一口气。原本芯通国际是有希望在45（nm）这个节点上反超那些国际巨头的，但现在因为光刻设备的延期到货，又比人家晚了好几个月。
公平竞争？是不存在的。
就拿芯通国际从AS&L订购设备来说，对方一直都有一些限制条款。比如，芯通国际不能用进口的设备为国产自主品牌的CPU代工，像“华芯”“神威”就不行。你要是帮助这些品牌进行大规模商业化应用，对不起，以后都不卖给你光刻机了。
总之，孟如松的无奈胡杨能深深理解。
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