办公室坐了差不多一个小时，才告辞离去。
秋天，开始从北到南依次开始降临华夏大地。
不过位于南方的深海依然酷热，宛若夏季。
关于地铁沿线的那一块土地的竞拍早已结束，宜城地产和郭家联手，毫无意外的成为了最后的赢家。
拍卖会当日，郭炳昆也曾邀请胡杨一起去现场看看，不过胡杨刚好有事，就委婉的拒绝了。
据说，当时李家的人在激烈的竞拍中，也有了火气。整个竞拍过程持续了二十二轮，最后以高出底价五倍以上的价格，才尘埃落定。
这几天，胡杨几乎天天都泡在芯通国际和魅力半导体，位于深海的工厂，消磨时光。
魅力半导体利用32层堆叠技术生产出来的最新闪存，已经实现了量产，并开始源源不断的给客户供货。
而孟如松带领团队，在深海成功攻克了二次曝光技术，将制程从技术层面推进到22nm\\28nm。
不过这还只是实验成果，想实现大规模量产，最起码还需要一年左右的时间。
但这一次的成功，仿佛是给孟如松带来了灵感，他和他的团队陆续研发出诸如“遮挡法”等先进工艺，相信在不久以后，这些技术上的突破就会大放异彩。
“胡总，从理论上来说，我们以现有的装备为基础，进行挖潜改造以及工艺上的突破，可以将制程推进到最高10nm\\12nm这个程度。再往下，比如7nm或者是5nm制程，就绝对无法做到。”
10nm制程以下，光刻机应用的光源就会发生根本的改变。像ASML会同S星、台电、英特等公司，正在研发下一代极紫光光刻技术，也就是EUV光刻技术。
这个没有任何的其他捷径可走。
这也就意味着，如果国际光刻设备巨头，停止给芯通国际供货，那么公司的制程将在很长一段时间之内，停留在10nm这个节点。
当然，如果国产光刻设备厂商能够攻克SUV光刻机，那么这个难题也能得到完美的解决。
“孟总，现在还有时间。按照制程工艺12--18个月向前推进一代的规律，咱们还有6年以上的时间。这段时间，我们只能期待国产光刻设备的顺利突破。”
胡杨不知道6年以后整个大环境是怎么样的，但他不相信国内的半导体产业会走当年RB的老路。
“也是，时间其实还充裕。考虑到良品率等因素，实际上我们的时间可能还会多一些
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