到65纳米（干式光刻）阶段时，让我再往前看三代的话，我就已经看不到了。”
于是在众多人陷入X光光刻技术无法自拔的时候，林本坚义无反顾地投入了浸润式光刻技术的研究中。
终于在2002年，已经加入台积电的他研究出以水作为介质的193纳米浸润式光刻技术。
也就是在2002年，冥冥之中宣告了过往干式光刻机的死刑。
浸润式光刻技术让摩尔定律继续延伸，后来台积电也因此领先竞争对手超过5年。
然而任何一项颠覆式新技术的出现，总会受到来自于传统势力巨大的阻力。
林本坚的浸润式光刻，几乎被尼康、佳能、IBM等所有巨头封杀，尼康甚至向台积电施压，要求雪藏林本坚。
巨头的陨落，总是如出一辙。
当年柯达最早生产出来了数码照相机，但是柯达却因为恐惧数码相机威胁到自己的胶片业务，做出决定——一定要藏好，不能让别人知道。
尼康的智商，在巨大的现有经济利益前消耗殆尽。
一场赌局即将开始。
半死不活的ASML敏锐的看到了其中蕴藏的巨大机会，历史注定ASML会和林本坚合作。
ASML如果选择浸润式技术，不仅可以获得台积电的巨大订单，也能够和台积电建立起危难中的“革命友谊”。
对于林本坚和ASML来说，结果都不会比现在更糟了。
命运倒向了浸润式光刻技术。
2004年，ASML和台积电共同研发出第一台浸润式微影机，优秀的性能和稳定的技术，让阿斯麦的产品全面碾压尼康。
尼康只用了5年时间，就失去了50%以上的份额，沦为一个不入流的厂商。
半导体的兴衰，没有道理可讲，而且毁灭是巨大的。
时间到2009年，因为日本、IBM等无视浸润式技术，让日的半导体厂商以及IBM也都迅速衰落。
尼康因为一步错，把整个日本半导体拖慢了3个世代。
这种情况也发生在格罗方德身上。
当年格罗方德选择了FD-SOI工艺被彻底采用FinFET工艺的台积电甩出十条大街，最终不得不放弃7nm工艺的研发。
ASML这场赌局大获全胜，这是ASML王朝的开端，但真正封神的一役发生在6年后。
早在1997年，当时干式光刻还大行其道的
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