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454 许秋又出圈了,幕后推手竟然是……(求订阅)

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务的因素。

当然,他们也算是吃到了一波红利,后面Sci.Bull.变为综合类一区了嘛。

而且,这两篇文章都非常的短,他们发表的格式是“ShortCommunication(短通讯)”。

本来相较于正常Article格式的文章,Communication就够短的了,一般是三千个单词左右,三到五张图片的样子。

而现在这个ShortCommunication更夸张,正文只有两页半,全文就一张图片,整合了分子结构、光吸收光谱、荧光光谱、J-V特性曲线以及EQE曲线。

不过,实验方面的工作量其实也没少太多,因为其他的表征测试也是做了的,包括光源GIWAXS,电镜TEM、AFM,电荷迁移率SCLC,只是被放在了支持信息中,里面有足足20张图片。

当然,文章短不短的,对许秋来说也无关紧要。

他主要关注到三个点,即COi8DFIC体系具有“超窄禁带宽度”、“高电流密度”、“对膜厚不敏感”的特点。

COi8DFIC的禁带宽度只有1.26电子伏特,光吸收带边可以达到1000纳米,已经接近硅的禁带宽度了,常温下本征半导体硅的禁带宽度为1.12电子伏特。

也因此,基于COi8DFIC二元体系的器件,短路电流密度就高达26毫安每平方厘米,三元体系更是达到了28毫安每平方厘米,比许秋现阶段拿到手的Y系列受体都夸张。

当然,高短路电流密度也是有代价的,那就是开路电压偏低,只有0.68伏特。

不然,给这种电流密度配上一个0.8伏特以上的开路电压,打破现阶段世界纪录的课题组就不是许秋,而是李丹课题组了。

同时,COi8DFIC还兼顾了IDIC系列的优点,在制备厚膜器件时,器件性能的衰减幅度较小。

因此,许秋初步判断,这种材料或许是IEICO-4F等近红外受体材料的上位替代,值得进行尝试。

周日。

因为周六加班的缘故,许秋一觉睡到中午才醒。

他取过手机,打算看一眼时间,却发现微信像是被轰炸了一样,全是未读消息,还有一通来自魏兴思的未接来电。

难怪许秋在睡梦中总感觉周围在震动,原来不是错觉,而是手机在震。

他首先看了眼魏老师的来电记录,是早上九点钟的,响铃


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