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第436章 3D三栅极晶体管

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¼Œ这就开始。让我们先从很多人最关注的地方开始吧。22纳米制程工艺,以及EUV光刻机。”

英特尔的高管猛的心神巨震。

EUV光刻机?

其他懂这个的,立刻张大了嘴巴。还真有未公布的新成果?

什么情况?浸润式光刻机不是刚做出来不久吗?怎么就有极紫外光刻机了?

ASML倒是一直在做,原来说04年推出的,现在肯定是集中精力改进浸润式光刻机去了,EUV光刻机没有新消息。

顾松不等众人疑惑不解,就说道:“浸润式光刻,经过我们的一段实验和论证,它的有效极限,应该就是22纳米。所以,极紫外光刻的研发已经提上了日程,我们只取得了很小的进展。之所以在这里提出来,也是向各位有需要的伙伴发出邀请,一起攻克这个难题。”

听到这话,凯文·卡尔心头一动,这是一个很好的信号。

唯一只需要考虑的,就是老家伙们,愿不愿意与华国展开合作。

英特尔的高管也长舒一口气。

如果说燧石科技又拿出来22纳米制程工艺,又完成了可以突破到10纳米甚至7纳米制程的极紫外光刻机,那将极大地影响英特尔接下来至少10年到20年的战略走向。

台上,顾松通过幻灯片呈现出了他最期待想看到的一个东西。

“诸位,这就是22纳米制程工艺下的3D三栅极晶体管示意图。”

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