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第205章 国产DUV深紫外光源光刻机试生产成功

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件必须要出两种版本才能上市销售。

那么对微算公司来说未来和HH94均分天下也只是一个时间问题。

微算公司股价一路走高。

……

XP系统的综合口碑虽然很好,米联邦国内销售也渐好。

但在国际市场销售却一般。

倒不是大家不想买更便宜的产品,主要是现在的应用端市场,是HH94在坐庄了。

你的系统再好。

没有软件生态支持也不行。

国际市场上的用户可没有什么爱米联邦的情节。

人家还是要用更方便的系统。

……

五月。

华光微电子传来了好消息。

经过了三年多坚持不懈的研发。

光源技术终于突破到了深紫外光源(DUV)。

光刻精度也终于迈过了三百五十纳米。

进入了两百五十纳米。

加工工艺也从投影式突破到了扫描式,加工速度大幅提升。

虽然看似只是光源上的突破,但对华夏国的光刻机产业来说,却是一个巨大的突破。

华夏国现在拥有了深紫外光源的扫描式光刻机。

实际的技术已经接近国际最顶级的水平了。

苏翰当然是非常的高兴。

他的离轴同轴双工作台设计终于可以大展拳脚了。

不过再次之间他要率先完成五轴数控加工中心。

毕竟光刻机的工作台要求加工精度非常的高,需要一个牛逼一点的机床才行。

龙翰车床正在试生产五轴数控机床。

五轴机床试产完成以后就可以挑战双工作台和离轴同轴加工工艺了。

……

翰林院这边已经完成了250纳米新型芯片的设计。

苏翰名下的光刻胶企业也完成了ArF光刻胶的研发(苏翰这个时候已经有了化学材料工程的所有技术,所有光刻胶的制造方法,他已经全都掌握了。现在只是差光刻机而已,只要是芯片的生产材料,他都可以在短时间内达到国际先进水平。)。

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