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第464章 被演了一脸

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研制情况。

黄新华道:

“根据你上次提供的方法,我们现在在光刻胶上取得了不小的进步。”

“引入交联结构和刚性分子结构这两步,也基本完成。”

“不过想要建立符合的树脂体系,还需要不少的时间,在双组分树脂和梯度分布设计上,有待进一步提高……”

他简单地说了说情况。

当然,除了李暮提供的方法之外。

他们也不是毫无突破。

比如通过提高后烘温度,从而促进树脂的较量反应,增强机械强度。

又比如控制显影条件,减少显影液对树脂的过渡侵蚀,保护结构的完整性等。

通过调整光刻的工艺条件,也能够间接地改善机械强度和抗刻蚀性。

甚至令李暮有些意外地提出了分层设计的想法。

“采用多层光刻胶结构,低分子量树脂作为顶层,高分子量或抗刻蚀树脂作为底层。通过物理分层直接隔离性能需求,你觉得可不可行?”黄新华问道。

李暮笑道:

“当然可行,不过想要实现,需要克服多个难点。”

“不同的光刻胶层之间需要具有良好的粘附性,避免层间混合或界面的缺陷的出现。”

“还有就是工艺兼容性的问题,溶剂侵蚀、热膨胀系统不匹配,都有可能影响成品……”

他说了一下自己的意见。

分层设计,也叫多层光刻胶技术。

不过这种技术,尽管在理论上具有显著优势。

在实际应用中,却面临诸多技术难点和设备要求。

除了上述的问题之外。

还有分辨率与厚度的平衡问题、缺陷控制问题等。

另外在设备上,也需要专门的机器做支持。

比如高精度的旋涂机或喷涂设备、高精度的曝光机、高精度的显影机等。

整体来说。

效果好,成本也高。

“既然你都这么说了,那我们再好好考虑考虑。”黄新华果断道。

在他心中,李暮同意的不一定没问题。

但觉得不行的,十成十行不通。

闻言,李暮想了想,道:

“技术是可以的,就是现在很难实现。可以先研究着,以后再看看有没有可能。”

……

在黄新华这边花了两个小时左右的时间。


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