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第767章 科学家们的呐喊:前沿不当人了是吧?

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毕业的都有。

就说一个事情,胜遇已经申请了数千项通信标准专利,多数是5G方面的。

但是基本没交专利费。

是占专利名额,利用专利法申请不交费废止来做滚动性保护。

这样既可以占优先权,又可以不公开,通过一次又一次新的申请更新优先权延长专利保护期。

算是某种基操。

有意思的是,胜遇实验室的研究并不怎么花钱,除了技术储备和基础研发环境支出外,最大头的支出居然是研发人员的薪资……

听完汇报,脑子里也开完小差的方总想了想,道:“下午召开一次联合会议,需要有长光所等一些合作单位的参与。”

“我来协调。”行政主管连道。

“我会帮忙。”王院士跟着说道。

“……”

午后两点,长光所副所长张学君等人,大部分合作的科研单位代表都来到了梼杌实验室。

方年坐在居中位置。

神态轻松自如。

令人不敢忽视。

张学君也想起了两年多前的那次会面,实在没想到再见面时会是这样的光景。

方年目光扫过与会众人:“各位下午好,我是方年,初次见面,请多关照。”

“方总好。”

“方总太客气了。”

“……”

简单的寒暄过后,方年直截了当道:“恕我冒昧,为了不耽误大家更多的时间,我就开门见山了。”

“庐州前沿正在建设一条12寸晶圆测试线,为了配合这条测试线,梼杌这边将全面进军EUV光刻研究,希望大家能给予必要支持。”

此话一出,众人皆愣。

包括梼杌的王院士。

“EUV?”张学君挑了下眉,斟酌着说道,“方总,冒昧问一句,你好像对极紫外情有独钟?”

“理论上只有最尖端光刻需要用到极紫外光刻,DUV(深紫外)借住浸入式方案理论上可以做到7nm光刻,似乎没必要全面进军EUV?”

“……”

在座众人都是懂行人士,纷纷发表了各自的看法。

比如DUV技术积累等等问题。

毕竟梼杌实验室名字里的‘半导体设备’五个字有85%是针对:

集成电路前道制造光刻机。

光刻机其实是个泛称,内里可细分为前道制造、后道封装、应用


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