于TFT(薄膜晶体管)的光刻、应用于中小基底先进光刻等的光刻机。
一般大众认知范围内的光刻机是集成电路前道制造光刻机……
听着大家的不同意见，方年微微一笑：“DUV不是有各位在努力吗？”
“前沿不能白叫前沿这个名字，而且EUV这个领域基本上属于赢家通吃，很符合前沿的目标。”
王院士立马道：“可是ASML的EUV实验机去年就运到了台积电使用。”
“……”
“这个领域需要很庞大的投入。”
“……”
方年当然知道。
他更清楚的是，全球范围内EUV光刻机的差距其实不太大。
要么就是没想过，要么就是放弃了。
唯一一家至死不渝坚持到底的是ASML。
有意思的是，最终水准其实取决于砸钱程度以及对技术整合的程度。
当然，ASML快得很，06年开始投入，去年推出了首台EUV工程原型机，而且还有台积电这个大客户在使用、验证、反馈。
但……
ASML很缺钱，方年曾看过的所有与ASML有关的媒体报道都提到了ASML在2012年7月份发起的客户联合投资计划。
这份计划募集了超过50亿欧元的资金，其中一半用于EUV光刻研发。
且因为始终未实现EUV光刻机的大规模量产，以至于参与这份计划的三星、台积电、英特尔先后减持了股份。
钱这东西，前沿也缺。
但前沿在某种意义上可以不缺钱……
等众人讨论完，方年淡然道：“前沿计划今年内首批投入10亿美元，包括但不限于面向全球收购相关企业、专利授权、研发投入；
明年起的三年内前沿一家的年平均纯研发投入不低于50亿人民币，后续视情况递增。”
会议室为之一静。
方年继续说道：“其次，梼杌会牵头促成一个大的泛技术联合投资管理单元，梼杌只承担其中一部分研发工作和大头资金投入，每个单位做自己最擅长的事情；
比如长光所在光相关工作上努力，比如上微电来做总成。”
“协调前沿来搞定，包括其他单位的出资力度等，各位考虑一二给个答复。”
张学君：“……”
“……”
最后有人弱弱的道：“那DUV呢
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